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島本 直伸（客員助教授）
Theme
・シリコンナノ加工表面への微粒子の選択的・自己集合配列
・シリコン基板中ドーパント濃度による磁性金属めっきプロセスの制御
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谷井 孝至（准教授）
三宅 丈雄（学振特別研究員）
赤堀 怜奈 別府 祐一（M2）
青木 睦子 佐々木 康祐（M1）
和田 純一（B4）
Theme
Fieled Emission Group
・シリコンナノピラミッドを用いた微小電子源配列の作製
Bio Group
・自己組織化単分子膜
・シリコン基板上への生体分子の高密度高配向性配列固定
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品田 賢宏 （准教授）
朱 延偉（M2）
堀 匡寛（M1）
平 圭吾（B4）
Theme
・シングルイオン注入技術による不純物の原子スケール制御
・単一原子の個数・位置制御による絶対感度較正用標準試料の開発
・Siナノ細線における注入イオンの挙動
・シングルイオン注入によるCNTの位置選択的成長
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渡邉 孝信（准教授）
山本 英明（D2,学振特別研究員）
照沼 知英（M2）
恩田 知弥 登坂 亮（M1）
図師 知文（B4）
Theme
・ダイナミックボンド型分子動力学法の提案
・大規模分子シミュレーション技術、ナノプロセスシミュレーターの開発
・不純物原子の規則的配列を有する半導体の量子効果に関する検討
・半導体‐生体分子相互作用のコンピュータシミュレーション
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清家 綾（GCOE客員講師）
杉浦 裕樹（M2）
土田 育新（M1）
高井 一（B4）
Theme
・Siナノ細線デバイスの電気特性評価
・金属絶縁体転移の研究
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神岡 武文（材研助手）
佐藤 光（M2）
風間 裕 (M1)
吉田 尚弘（B4）
Theme
・走査型トンネル顕微鏡‐イオン銃の複合装置による
イオン注入素過程の連続観察
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